微納光刻技術(shù)雜志
出版商：SPIE
出版語言：English
出版地區(qū)：UNITED STATES
出版周期：Quarterly
ISSN：1932-5150
E-ISSN：1932-5134
創(chuàng)刊時間：2007
是否OA：未開放
是否預(yù)警：否
大類學(xué)科：物理與天體物理
小類學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
年發(fā)文量：0
研究類文章占比：0.00%
Gold OA文章占比：7.69%
中科院 2023年12月升級版：中科院分區(qū)2區(qū) 大類學(xué)科：物理與天體物理
收稿方向：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
學(xué)術(shù)咨詢：預(yù)計審稿周期： 較慢,6-12周 CiteScore：3.4
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《微/納米光刻、MEMS 和 MOEMS 雜志》（JM3）發(fā)表同行評審的論文，內(nèi)容涉及光刻、制造、封裝和集成技術(shù)的科學(xué)、開發(fā)和實踐，這些技術(shù)對于滿足電子、微機(jī)電系統(tǒng)、微光機(jī)電系統(tǒng)和光子學(xué)行業(yè)的需求必不可少。
微納光刻技術(shù)雜志創(chuàng)刊于2007年，由SPIE出版社出版。其研究的主題領(lǐng)域包括但不限于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，是一本在物理與天體物理領(lǐng)域具有重要影響力的國際期刊。該期刊涵蓋了物理與天體物理的多個子領(lǐng)域，旨在全面理解和解決物理與天體物理問題。
根據(jù)最新的數(shù)據(jù)，微納光刻技術(shù)雜志CiteScore為3.4，h-index為37，SJR為0.393，SNIP為1.723，中科院分區(qū)為2區(qū)，這些指標(biāo)均顯示了該期刊在物理與天體物理領(lǐng)域的優(yōu)秀地位。
該刊以English作為出版語言。對于English非母語的作者，期刊建議使用語言編輯服務(wù)，以確保文稿的語法和拼寫錯誤得到糾正，并符合科學(xué)English的標(biāo)準(zhǔn)。如果想實現(xiàn)快速順利的投稿發(fā)表，建議您聯(lián)系本站的客服團(tuán)隊，將為您提供專業(yè)的選刊建議，并在整個投稿過程中提供細(xì)致的指導(dǎo)。
*期刊發(fā)文量是一個量化的指標(biāo)，用于衡量期刊的出版活動和學(xué)術(shù)影響力。
*綜述文章是一種特定的學(xué)術(shù)文體，專門用來回顧和總結(jié)某一領(lǐng)域或主題的現(xiàn)有研究成果和理論進(jìn)展。
*發(fā)文量和綜述量都在學(xué)術(shù)出版中都扮演著重要的角色，但關(guān)注的焦點和目的不同。
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：Mechanical Engineering | Q2 | 299 / 672 |
55% |
| 大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 389 / 797 |
51% |
| 大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q3 | 113 / 224 |
49% |
| 大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics | Q3 | 223 / 434 |
48% |
| 大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 155 / 284 |
45% |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
*中科院期刊分區(qū)表是中國科研界廣泛認(rèn)可的期刊評價體系，是由中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報中心科學(xué)計量中心編制的一套期刊評價體系,在中國的科研界具有較高的認(rèn)可度和影響力，常被用作科研項目評審、職稱評定、學(xué)術(shù)評價等方面的參考依據(jù)。
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 187 / 275 |
32.2% |
| 學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 255 / 342 |
25.6% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 91 / 107 |
15.4% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q3 | 68 / 100 |
32.5% |
該期刊是一本由SPIE出版社出版的學(xué)術(shù)期刊，屬于JCR分區(qū)中學(xué)科領(lǐng)域的區(qū)期刊，中科院分區(qū)為物理與天體物理學(xué)科領(lǐng)域2區(qū)。該期刊的ISSN為1932-5150，近一年未被列入預(yù)警期刊名單，是一本國際優(yōu)秀期刊。
該期刊涉及的研究領(lǐng)域是ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，在中科院分區(qū)表中大類學(xué)科為SPIE，小類學(xué)科為SPIE，在準(zhǔn)備向該期刊投稿時，請確保您的研究內(nèi)容與期刊的研究領(lǐng)域緊密相關(guān)至關(guān)重要。
Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems期刊2023年的影響因子是0，2022年的影響因子是2，該期刊審稿周期預(yù)計需要約 較慢,6-12周 ，為了確保您的投稿過程順利進(jìn)行，請合理規(guī)劃時間投稿。
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